Wet Station(습식 세정 장비)
| 보유대학 | 성균관대학교 |
|---|---|
| 제작사 | 에스아이엔지니어링 |
| 모델 | - |
- 장비설명 : 반도체 소자 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염물은 파티클, 유기 오염물, 금속불순물
그리고 자연 산화막으로 나눌 수 있다. 이런 다양한 오염물들을 제거하기 위해서 웨이퍼는
각각의 오염물들을 효과적으로 제거하기 위한 여러 가지 세정 용액을 혼합하여 처리한다.
| 보유대학 | 성균관대학교 |
|---|---|
| 제작사 | 에스아이엔지니어링 |
| 모델 | - |
- 장비설명 : 반도체 소자 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염물은 파티클, 유기 오염물, 금속불순물
그리고 자연 산화막으로 나눌 수 있다. 이런 다양한 오염물들을 제거하기 위해서 웨이퍼는
각각의 오염물들을 효과적으로 제거하기 위한 여러 가지 세정 용액을 혼합하여 처리한다.